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RFPM-PCVD- RF Plazma Microwave support sputtering machine parallel plate -
RF・マイクロ波 プラズマCVD実験装置(平行平板型)
型式 RFPM-PCVD
概要 RF・マイクロ波プラズマCVD実験装置は、多種多様な実験に 応用可能。
カーボンナノ材料開発、炭素膜・窒化膜コーティング、マイクロ波表面波によるエッチングなどの実験装置として使用できる。
特徴 ヒーター特性900°Cまで50分以内で上昇可能。
RFプラズマCVDとしてもマイクロ波プラズマCVDとしても使用可能。
電源電圧 AC200V 二相3線式 50/60Hz(電源電圧変動:±10%)
最大電流 60A
運転可能周囲温度湿度 +5~+35°C/75%rhまで
装置本体外形寸法(W×H×Dmm) 2400×1765×800
装置システム敷地寸法(W×Dmm) 3700×1500
装置本体重量(kg) 800
装置に使用した環境条件
冷却 蒸気 オイル 特殊ガス エネルギー
需要種別 平成24年 新あいち創造研究開発補助金事業 名古屋市工業研究所と協同申請

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